高品質フォトレジストは、ずっと産業のボトルネックとなる重要な分野と見なされてきました。しかし、このゲームの本質を理解している人たちは、状況が想像されているほど絶対的ではないことを知っています。

真の独占は、EUV用の最先端製品、つまり7ナノメートル以下の超高精度フォトレジスト分野にのみ存在します。しかし、この市場にはセーリングがあります。国内のEUV露光装置はまだ研究開発段階であり、スケジュールによると、2～3年以内に段階的に応用が進められるようになります。重要な点は、その時点について、付属の国産フォトレジストも非常に高い確率で適応と量産が完了するということです。つまり、ボトルネック問題のタイムラインは国内にとってそれほど不利ではないのです。

次に、7ナノメートル以上の市場を見てみましょう。これはすでに秘密ではありません。国産代替品のフォトレジストは量産段階での試験運用に既に進んでいます。ただ、以前は供給と認証サイクルに限定されていました。一度輸入経路が制限されると、これはまさに国内メーカーが市場シェアを奪うための絶好の機会になります。この観点から見ると、サプライチェーンの再配置は市場構造にとって良いことかもしれません。

最後に考えるべき点：民間分野の基礎材料に対する制裁が拡大する場合、ゲームのルールが変わります。報復手段の範囲はもはや特定の製品や技術に限定されません。この種のエスカレーションは歴史上、双方がより長期的な対立に備えたことを意味しています。誰がまずこのラインを越えるのか、その後の連鎖反応の責任を誰が負うのかが問題となるのです。